В основе метода лежит наноструктурированная маска, преобразующая лазерный луч в объемный световой шаблон. Свет воздействует на полимер SU-8, формируя структуру целиком, что исключает появление микроскопических границ между слоями. Именно эти стыки традиционно служат слабыми местами, снижающими прочность изделий. Отсутствие послойной структуры делает детали более однородными и долговечными.
Технология опирается на принципы фотолитографии, адаптированные для создания объемных объектов, а не плоских чипов. Ключевым компонентом стала нанолинза, корректирующая рассеивание света внутри материала и концентрирующая энергию точно по заданным координатам. В ходе тестов команда успешно изготовила массивы микротрубок диаметром 6 микрометров, чья длина в 120 раз превосходила ширину.
Полученные элементы продемонстрировали отличные показатели при работе с капиллярным эффектом, что открывает путь к созданию сложных микрофлюидных устройств и лабораторий на чипе. Сейчас авторы разработки работают над улучшением контроля над пространственными характеристиками объектов, чтобы перевести метод от создания простых геометрических форм к печати полноценных трехмерных структур без потери скорости.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!