ASML проектирует литографию Hyper NA для чипов будущего

Новая установка призвана превзойти текущие системы с высокой числовой апертурой, известные как High-NA EUV. Инженеры рассчитывают увеличить разрешение оборудования более чем на треть, что позволит формировать структуры размером около 5 нанометров. Для производителей электроники это означает возможность кратного роста производительности при одновременном снижении энергопотребления чипов, что сегодня упирается в физические пределы литографии.

Техническая сложность проекта заключается в создании оптики сверхвысокой точности, над чем сейчас работают специалисты Carl Zeiss. В самой ASML планируют сократить издержки и сроки разработки за счет интеграции существующих решений, в частности, уже отлаженных источников света. Хотя компания пока не утвердила окончательный план запуска серийного производства, успех Hyper NA определит темпы развития всей мировой микроэлектроники на следующее десятилетие.