Новая система будет специализироваться на неразрушающем контроле полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм. На этом этапе инженеры сфокусируются на измерении критических параметров: от ширины проводников до шероховатости краев линий. От точности этих замеров напрямую зависят объемы выхода годной продукции на российских заводах. К июню 2030 года разработчики должны представить полностью локализованный продукт — от электронной пушки и вакуумной системы до программного обеспечения.
Техническое задание исключает использование импортных компонентов без специального согласования с заказчиком. Устройство рассчитано на десятилетний цикл эксплуатации со средней наработкой на отказ не менее 1000 часов. Ранее Зеленоградский нанотехнологический центр уже демонстрировал успехи в этом направлении, представив установки электронно-лучевой литографии с разрешением до 150 нм, которые сейчас проходят стадию испытаний.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!