Zeiss масштабирует производство оптики для чипов нового поколения

Заводы Zeiss остаются единственным в мире источником оптических колонн, зеркал и осветительных модулей для EUV-литографии. Зависимость ASML от партнера достигла критических значений: объемы выпуска машин напрямую упираются в производственные мощности немцев. Чтобы снять эти ограничения, компания инвестирует в расширение площадок не только в Оберкохене, но и в Вецларе, а также в Россдорфе и Южной Корее.

Техническая сложность изделий поражает: одна оптическая колонна для систем High-NA EUV насчитывает свыше 40 тысяч деталей и весит 12 тонн. Обработка и проверка зеркал требуют ювелирной точности, где допустимые отклонения измеряются долями нанометра. Финансовая поддержка со стороны ASML уже измеряется миллиардами евро, включая кредитные линии и авансы. Ставка оправдана: выручка подразделения Zeiss SMT за последний год подскочила на 23%, достигнув 5,055 млрд евро, что сделало это направление главным драйвером всей группы.