Два опытных экземпляра литографа сейчас проходят комплексную проверку, рассчитанную на ближайшие четыре месяца. Технология ориентирована на научно-исследовательские задачи, создание прототипов и выпуск специализированной электроники, включая компоненты для космической отрасли. Отказ от использования масок делает этот метод оптимальным для НИОКР, где требуется высокая гибкость при создании микросхем.
Хотя электронно-лучевой метод проигрывает классической фотолитографии в скорости и не годится для потокового производства, он остается критически важным инструментом для независимых разработок. Ранее Зеленоградский нанотехнологический центр уже представил фотолитограф с разрешением 350 нм и сейчас продолжает работу над оборудованием с проектными нормами 130 нм.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!