Команда под руководством Раджеша Менона и Даджуна Лина адаптировала принципы фотолитографии, применяемой в производстве микросхем, для создания объемных объектов. Ключевым компонентом установки стала наноструктурированная линза-маска, компенсирующая рассеивание света внутри полимерного материала SU-8. Это решает проблему размытия, с которой сталкивались разработчики при попытках перенести 2D-фотолитографию в трехмерное пространство.
В ходе экспериментов ученые создали массивы микротрубок диаметром до 6 микрометров с соотношением размеров 120:1. Полученные структуры успешно прошли испытания на сжатие и продемонстрировали способность транспортировать жидкости за счет капиллярного эффекта. Сейчас технология напоминает «вырезание» сложной формы из толщи материала, где лазер выступает в роли инструмента для моментального отверждения полимера. Дальнейшая работа исследователей направлена на то, чтобы перейти от вытянутых микроструктур к полноценной печати, где форма будет контролироваться во всех трех измерениях без ограничений текущего метода.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!